HI84100二氧化硫滴定分析儀
更新時(shí)間：2023-06-29
產(chǎn)品特點(diǎn):
HI84100二氧化硫滴定分析儀:HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域，二氧化硫的主要應用是進(jìn)行防腐。以葡萄酒為例，當有氧存在時(shí)將Z先與二氧化硫發(fā)生反映，起到抗氧化的作用，進(jìn)而保證酵母菌的正常發(fā)酵，并抑制其他雜菌。
HI84100二氧化硫滴定分析儀:HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域，二氧化硫的主要應用是進(jìn)行防腐。以葡萄酒為例，當有氧存在時(shí)將Z先與二氧化硫發(fā)生反映，起到抗氧化的作用，進(jìn)而保證酵母菌的正常發(fā)酵，并抑制其他雜菌。
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產(chǎn)品介紹
| 品牌 | HANNA/意大利哈納 |
|---|
HI 84100二氧化硫滴定分析儀性能：
• 基于微電腦控制技術(shù)，集滴定分析，磁力攪拌和電極測量于一體
• 性能優(yōu)良操作簡(jiǎn)單，可直接顯示測量結果
• 人性化設計，具有穩定標識和校準信息等顯示功能
• 殘留二氧化硫濃度取決于三個(gè)因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度
• 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用
• 當殘留濃度超過(guò)2.0ppm時(shí)，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。
HI 84100二氧化硫滴定分析儀技術(shù)參數：
| 型號 | HI 84100 |
| 滴定范圍 | 0 to 400 ppm of SO2 |
| 滴定方法 | 等電位氧化還原滴定法 |
| 滴定精度 | 讀數的5% |
| 取樣量 | 50 mL |
| ORP電極 | HI 3148B |
| 供電方式 | 220V/60 Hz；10VA |
| 使用環(huán)境 | 0 to 50°C （32 to 122°F）；RH max 95% |
| 尺寸重量 | 208 × 214 × 163 mm；2200 g |
HI 84100二氧化硫滴定分析儀及價(jià)格
| HI 84100 | 食品行業(yè)二氧化硫滴定分析測定，HI3148B電極，滴定試劑，相關(guān)附件，中英文手冊 ' | ￥8800.00參考報價(jià) |
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